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HOPG與HAPG石墨光學(xué)器件

發(fā)布于:2026-01-19 16:28:01

品牌名稱:Optigraph GmbH

重要參數(shù):

反射層厚度:HOPG 30–500 μm,HAPG 1–100 μm

鑲嵌度范圍:HOPG 0.4°–1.2°,HAPG 0.06°–0.3°

能量分辨率:HAPG在von Hamos幾何下可達數(shù)eV

最大單片尺寸:100 × 100 mm

適用基底:光學(xué)拋光玻璃/石英(最佳),金屬基底需粘合劑

  • 產(chǎn)品詳情

  產(chǎn)品概述

  Graphite Optics是一種結(jié)合了石墨高反射率和所需聚焦形狀的光學(xué)器件,具有高穩(wěn)定性,適用于惡劣環(huán)境。它由沉積在聚焦形狀基底上的薄層柔性石墨晶體(經(jīng)過特殊退火處理、排列良好的PG)組成。

  主要應(yīng)用

  X射線實驗和商業(yè)設(shè)備中的聚焦和單色化元件

  用作色散元件或?qū)拵V波器

  X射線熒光分析

  等離子體表征

  X射線吸收光譜(XAS)

  X射線發(fā)射光譜(XES)

  兩種主要產(chǎn)品類型

  1. HOPG-Optics(高定向熱解石墨光學(xué)器件)

  反射層材料:柔性高定向熱解石墨(HOPG-flex)

  厚度范圍:30-500微米

  鑲嵌度:0.4°-1.2°(取決于石墨層厚度)

  分辨率:數(shù)十電子伏特(eV)

  主要用途:X射線熒光分析和等離子體表征

  2. HAPG-Optics(高退火熱解石墨光學(xué)器件)

  反射層材料:高退火熱解石墨(HAPG)

  厚度范圍:1-100微米

  鑲嵌度:0.06°-0.3°(取決于沉積表面質(zhì)量)

  分辨率:數(shù)電子伏特(在von Hamos幾何條件下)

  主要用途:XAS、XES和等離子體表征

  幾何形狀

  公司可以實現(xiàn)多種形狀的光學(xué)器件:

  圓柱形HAPG光學(xué)器件(玻璃基底)

  橢圓形HOPG光學(xué)器件(鋁基底)

  對數(shù)螺旋形HOPG光學(xué)器件(PMMA基底)

  球形HOPG光學(xué)器件(玻璃基底)

  圓錐形HAPG光學(xué)器件(玻璃基底)

  基底材料

  光學(xué)拋光玻璃或石英透鏡:最常用的基底

  拋光鋁:主要用于中等鑲嵌度的HOPG光學(xué)器件

  金屬基底:適用于復(fù)雜形狀,但可能需要粘合劑


  產(chǎn)品尺寸最大可達100×100毫米,更大尺寸可以單獨討論或由多個晶體組裝而成。

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